主要功能介紹：
顯微分光膜厚儀（OPTM系列）使用顯微光譜法在微小區(qū)域內通過絕對反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數(shù)分析。通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。
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測量目標膜的**反射率，高精度測量膜厚和光學常數(shù)！非接觸·非破壞·顯微
測量時間僅1秒!
顯微分光膜厚儀（OPTM系列）使用顯微光譜法在微小區(qū)域內通過**反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數(shù)分析。通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上，能達到1秒/點的高速測量，并且搭載了即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學常數(shù)的軟件
產(chǎn)品特點：
頭部集成了薄膜厚度測量所需功能
通過顯微光譜法測量高精度**反射率（多層膜厚度，光學常數(shù)）
1點1秒高速測量
顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)（紫外***近紅外）
區(qū)域傳感器的安全機制
易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數(shù)分析
獨立測量頭對應各種inline客制化需求
支持各種自定義
測量項目：
**反射率測量
多層膜解析
光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）
應用：
半導體：晶圓樣品的自動調整，晶圓的彎曲檢測
光學元器件：鏡頭鏡片的放射率，彎曲等檢測
產(chǎn)品規(guī)格型號：
OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
波長范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
測定時間 | 1秒 / 1點 | ||
光斑大小 | 10μm (***小約5μm) | ||
感光元件 | CCD | InGaAs | |
光源規(guī)格 | 氘燈+鹵素燈 | 鹵素燈 | |
電源規(guī)格 | AC100V±10V 750VA（自動樣品臺規(guī)格） | ||
尺寸 | 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動樣品臺規(guī)格之主體部分) | ||
重量 | 約 55kg（自動樣品臺規(guī)格之主體部分） | ||